專利名稱 一種基于可升降平臺的輥對平面紫外納米壓印裝置及方法
申請?zhí)?專利號 CN201710838372.5 專利權(quán)人（第一權(quán)利人） 長春工業(yè)大學
申請日 2017-09-17 授權(quán)日 2023-04-07
專利類別 授權(quán)發(fā)明 戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)分類 高端裝備制造
技術(shù)主題 平版印刷術(shù)|機械工程|納米壓印光刻|干法蝕刻|物理學|材料科學
應用領域 最終產(chǎn)品制造|光機械設備
意向價格 具體面議
專利概述 本發(fā)明涉及一種基于可升降平臺的輥對平面紫外納米壓印裝置及方法，屬于紫外納米壓印光刻領域。調(diào)節(jié)裝置通過螺釘固定在主機架上部的滑塊三和滑塊四上，可升降平臺的步進電機一固定于機架內(nèi)部，并通過與支撐桿軸承配合固定于機架上，工作平臺的Y軸工作平臺方向指向可升降平臺，工作平臺通過螺釘固定于機架中央的底板上，運輸裝置一和運輸裝置二通過螺栓分別固定于機架的兩側(cè)，紫外燈固定于機架的支撐梁上，干蝕刻裝置與機架由螺釘連接，固定于機架右側(cè)的通道中。優(yōu)點是結(jié)構(gòu)新穎，壓印裝置相較于以往的滾對平面壓印裝置有更高的生產(chǎn)效率；使得模板與襯底更好的共形接觸；減少了紫外曝光過程中熱應力較大對模板和襯底的損傷。
圖片資料 一種基于可升降平臺的輥對平面紫外納米壓印裝置及方法
合作方式 具體面議
聯(lián)系人 戚梅宇 聯(lián)系電話 13074363281